艾司摩爾執行長克里斯多夫·富凱：沒人能趕上我們

每次當你使用 AI 時，你都在某種程度上依賴於一家擁有 42 年歷史、4.4 萬名員工、每年投入 45 億歐元研發技術的荷蘭公司。

總部位於荷蘭的 ASML（艾司摩爾）製造了生產晶片的機器，而正是這些晶片讓 AI 成為可能。更具體地說，它是全球唯一能製造極紫外光曝光機（EUV）的公司，這種機器能在矽晶圓上刻印出定義最先進半導體的微觀圖案。這些機器的大小約等同於一輛校車，需要數月時間組裝，涉及數百家供應商，每台售價從 2 億美元到超過 4 億美元不等，具體取決於世代（這樣的價格有時連 ASML 最大的客戶都會感到猶豫）。

這種壟斷地位使 ASML 成為歐洲市值最高的公司，價值超過 5,300 億美元。隨著美國四大科技巨頭——微軟、Meta、亞馬遜和 Google——僅在今年就承諾投入超過 6,000 億美元於 AI 基礎設施建設，對 ASML 機器的需求激增，以至於該公司公開表示，未來幾年全球晶片供應都將不足。

如此龐大的需求也讓 ASML 成為了目標。Substrate 是一家由彼得·泰爾（Peter Thiel）門生創立的舊金山新創公司，該公司聲稱能打造出與之競爭的曝光機，目前已籌集超過 1 億美元，估值超過 10 億美元。另外，有報導稱中國的前 ASML 工程師已部分逆向工程了該技術，這一前景具有巨大的地緣政治影響。

Christophe Fouquet 在 ASML 工作十多年後，於 2024 年接任執行長。週二上午，他在出席米爾肯研究院全球會議（Milken Institute Global Conference）前，於比佛利山莊酒店的頂層露台與本刊編輯坐下來交談。他身穿藍色西裝和白襯衫，顯得十分放鬆——即使話題轉向競爭對手時也是如此。

本次訪談經過輕微編輯，以求簡潔明瞭。

TC：你有預見到 AI 的爆發嗎？

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CF： 不，完全沒有。我們非常努力工作，但並非抱著這一切會發生的想法。你從一個概念——人們認為最終會到來的東西——轉變到了 ChatGPT，那是第一個能展現 AI 能力的絕佳範例。現在我認為 AI 是下一場革命，不僅是工業上的，也是社會性的。我有預見到嗎？沒有。每天身處其中，有時我們早上醒來仍會確認一下，正在發生的一切是否真的在發生。

大家最關心的問題是供應鏈能否跟上需求。能嗎？

CF： 需求之大，使得整體市場在相當長一段時間內都會受到供應限制。目前，最大的瓶頸似乎在晶片製造。我們作為設備供應商，跟隨客戶的腳步，到目前為止我們跟得很好——但我們知道必須提升整個供應鏈和產能。如果你去問超大規模雲端服務商（hyperscalers），我想他們會告訴你，在未來兩年、三年甚至五年內，他們都無法獲得足夠的晶片。

台積電最近表示你們最新的機器太貴了。你如何回應？

CF： 如果你看價格，EUV 系統確實會比低數值孔徑（low-NA）系統更貴，但在某些先進層次上，使用這款工具製造晶圓的成本會更低。我們可以實現 20% 到 30% 的成本削減。

[編者註：Fouquet 在此提到的兩款機器都是 EUV 機器——採用相同的基礎技術。NA 代表數值孔徑，是衡量機器將光線聚焦到晶片上的精細程度。Low-NA EUV 是當前世代；High-NA EUV 是 ASML 的最新世代，能刻印更精細的圖案，但單台售價達 3.5 億美元或更高。Fouquet 的論點是，儘管新機器成本更高，但它生產晶片的成本更低。]

CF： 我常被問到這會發生在這個月、下個月還是再下個月。我通常會說這並不重要，因為我們設計 High-NA 是為了未來 10 到 20 年。你可以翻閱 2016、2017 年的新聞，你會發現同樣的評論——Low-NA EUV 非常昂貴。我們都知道後來發生了什麼。High-NA 也會發生同樣的情況。

有一家名為 Substrate 的新創公司，由彼得·泰爾支持，聲稱能製造出競爭對手的曝光機。你怎麼看？

CF： 想要擁有和實際擁有——這之間仍有巨大的鴻溝。曝光技術的挑戰非常多。能夠成像只是起點，但你需要以極高的產量、極低的成本、極快的速度以及奈米級的精度來完成成像。我常說，ASML 唯一能造出 EUV 機器的原因，是因為其中 80% 的技術已經存在，是基於長期累積的知識和產品。我們當時只需要解決一個問題——獲取 EUV 光源——而單單這點就花了 20 年。當你從零開始時，挑戰是巨大的。我看過很多聲明，看過幾張照片。但我們在 30 年前就拍出了第一張 EUV 圖像，之後仍需要 20 年的艱苦努力才將其轉化為生產系統。

那 xLight 呢？這是一家由美國政府部分資助的雷射新創公司，希望能與你們合作。

CF： xLight 專注於我們 EUV 機器的一個元件——產生光的光源。我們現有的光源可以延用很多年，而且我們知道如何擴展它。xLight 正在做的是一種全新的光源，仍有待建造和驗證。唯一的懸念在於它是否能提供比我們現有技術更好的性能或成本優勢。我認為目前尚無定論。我們正與他們合作，讓他們能展示其技術——我們覺得這是我們的責任。但這仍是一段非常漫長的旅程。

還有報導稱，中國的前 ASML 工程師已經逆向工程了你們的機器。

CF： 要逆向工程任何東西，你首先得擁有那台機器。而中國沒有 EUV 機器——我們從未向那裡出貨任何工具。我們出貨的所有工具，我們都知道在哪裡。它們要麼在客戶那裡使用（我們有追蹤），要麼已經拆解並運回給我們。認為我們的系統在中國的說法完全是錯誤的。而且因為我們的 EUV 技術從未出口到那裡，我們在中國也沒有受過 EUV 培訓的人員。

在限制措施實施之初，我們就在公司內部建立了完全的隔離，區分哪些人可以接觸 EUV 技術、文件和培訓，哪些人不能。我們在中國的團隊位於那條線的另一側。事實證明，即便有進展，也非常微小。人們很難接受這一點，因為獲取這項技術太重要了。

關於更廣泛的出口管制——黃仁勳昨晚在這裡主張公司應該在全球銷售，更多的企業收入意味著為公司母國貢獻更多稅收。他還說，重要的是把最好、最新的技術留在國內。你同意嗎？

CF： 我認為他完全正確。他補充的一點——我認為這也是輝達（Nvidia）所做的——是你可以透過在銷售產品中保持世代差距來維持技術優勢。輝達銷售的是前幾代的產品，這讓他們在繼續做生意與不向無法銷售最新產品的國家提供強大競爭優勢之間找到了平衡。我們認為同樣的方法也應適用於我們的產品。今天我們向中國出貨工具——這是出口管制允許的——但那是我們在 2015 年首次出貨的工具。如果你把黃仁勳的哲學應用到我們的情況，輝達大約保持了八代的差距。我們則在看兩到三代的差距。這裡有合理化的空間——在完全不做生意、失去重大機會，與強烈邀請他人與你競爭之間找到正確的平衡。

你如何評估現任政府在這些問題上的立場？

CF： 雙方有良好的對話，這非常重要。我認為政府對商業需求有真正的理解，但在所有不同的聲音和利益之間找到正確平衡仍是一項挑戰。對話是存在的，我們對此表示讚賞。我多次去過華盛頓。至少討論正在進行中。但這是一個非常複雜的課題。

你似乎並不擔心有人能抄襲你們技術的捷徑。

CF： 人們喜歡擁有最偉大的技術，但往往會忘記建造它需要付出什麼。這是多年的努力——不僅是在 ASML，還有我們的供應商。許多不同的團隊解決了極其困難的問題，然後由一家公司利用數十年的曝光專業知識將這一切整合在一起，轉化為生產系統。這絕非易事。我認為這也是我們最好的保護。這純粹就是整合這一切所付出的代價。